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| 品牌 | Eksma | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 雙波段激光反射鏡-4
介電雙波段鏡可在規定的波長（基本和倍頻激光線或基本激光線及其對準光束）提供99.5％的反射率。
產品介紹
Ø高反射鏡（99.5％反射率）
Ø設計用于45°或0°入射角
Ø由BK7玻璃或UV級熔融石英制成
Eksma 雙波段激光反射鏡-4
激光線反射鏡是介電反射鏡，在規定的激光波長下具有優良性能。雙波段激光鏡可用于需要兩條激光線反射的應用。
我們的激光鏡由BK7或石英制成，并涂有多層介電鍍膜。獲得的高拋光質量對于低波前畸變，低散射和高損傷閾值也很重要。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產品型號
UVFS; ø50.8 x 8 mm
型號 | 材料 | D | ET | R, %(S+P)/2 | AOI | 波長 | 應用 | |||||||
065-2635 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 266+355 nm | Nd:YAG 4H+3H | |||||||
065-2635-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 266+355 nm | Nd:YAG 4H+3H | |||||||
065-2653 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 266+532 nm | Nd:YAG 4H+2H | |||||||
065-2653-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 266+532 nm | Nd:YAG 4H+2H | |||||||
065-3553 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 355+532 nm | Nd:YAG 3H+2H | |||||||
065-3553-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 355+532 nm | Nd:YAG 3H+2H | |||||||
065-3506 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 355+1064 nm | Nd:YAG 3H+1H | |||||||
065-3506-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 355+1064 nm | Nd:YAG 3H+1H | |||||||
065-4080 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 390-410+780-820 nm | Ti:Sa 2H+1H | |||||||
065-4080-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 390-410+780-820 nm | Ti:Sa 2H+1H | |||||||
065-5103 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 500-530+1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 2H+1H | |||||||
065-5103-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 500-530+1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 2H+1H | |||||||
065-5306 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 532+1064 nm | Nd:YAG 2H+1H | |||||||
065-5306-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 532+1064 nm | Nd:YAG 2H+1H | |||||||
065-6306 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 45° | 633+1064 nm | HeNe:Nd:YAG 1H | |||||||
065-6306-i0 | UVFS | 50.8 mm | 8 mm | 99.5% | 0° | 633+1064 nm | HeNe:Nd:YAG 1H | |||||||
UVFS; ø76.2 x 12.7 mm 型號 | 材料 | D | ET | R, %(S+P)/2 | AOI | 波長 | 應用 | |||||||
067-2635 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 266+355 nm | Nd:YAG 4H+3H | |||||||
067-2635-i0 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 266+355 nm | Nd:YAG 4H+3H | |||||||
067-2653 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 266+532 nm | Nd:YAG 4H+2H | |||||||
067-2653-i0 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 266+532 nm | Nd:YAG 4H+2H | |||||||
067-5103 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 500-530+1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 2H+1H | |||||||
067-5103-i0 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 500-530+1000-1060 nm | Yb:KGW/KYW 2H+1H | |||||||
067-3506 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 355+1064 nm | Nd:YAG 3H+1H | |||||||
067-3506-i0 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 355+1064 nm | Nd:YAG 3H+1H | |||||||
067-5306 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 532+1064 nm | Nd:YAG 2H+1H | |||||||
067-5306-i0 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 532+1064 nm | Nd:YAG 2H+1H | |||||||
067-6306 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 45° | 633+1064 nm | HeNe:Nd:YAG 1H | |||||||
067-6306-i0 | UVFS | 76.2 mm | 12.7 mm | 99.5% | 0° | 633+1064 nm | HeNe:Nd:YAG 1H | |||||||
SUBSTRATE
材料 | BK7 *玻璃或UV級熔融石英 |
S1表面平整度 | λ/10 typical at 633 nm |
S1表面質量 | 20-10表面光潔度激光質量 |
S2表面質量 | 簡單拋光 |
直徑公差 | + 0.00 mm, - 0.12 mm |
厚度公差 | ± 0.25 mm |
楔 | < 3 minutes |
倒角 | 0.3 mm at 45° typical |
鍍膜
技術 | 電子束多層電介質 |
附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過中心直徑的85％ |
損壞閾值 | BK7雙線鏡-1 J / cm2，8 ns脈沖，典型1064 nm |
鍍膜表面平整度 | UVFS雙線反射鏡-2 J / cm2，8 ns脈沖，典型1064 nm |
入射角 | 633 nm處的λ/ 10超過直徑的85％ |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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