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| 品牌 | Eksma | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合 |
Eksma 部分反射鍍膜
Eksma 部分反射鍍膜
部分反射鍍膜是耐用的多層介電鍍膜，旨在用于有效的光束分離以及激光腔中的輸出耦合。
產品描述
部分反射鍍膜是耐用的多層介電鍍膜，旨在用于有效的光束分離以及激光腔中的輸出耦合。它們被設計用于大功率激光應用。
我們提供適用于不同波長和反射值的一系列標準局部反射鍍膜。請與我們聯系以獲取其他波長，AOI或反射值。
請發送帶有鍍膜和基材代碼的定制產品請求，以獲取報價。對于基材，請參閱我們的標準未鍍膜激光窗口部分。
我們還提供標準的分束器和輸出耦合器，可快速交付：
ØNd：YAG LaserLine分束器（1064 nm，532 nm，355 nm，266 nm）
ØFemtoline分束器（1030 nm，800 nm，515 nm，400 nm，343 nm，266 nm）
ØFemtoline寬帶分束器（720-880 nm，750-850 nm）
ØNd：YAG LaserLine輸出耦合器（1064 nm nm）
ØFemtoline輸出耦合器（1030 nm，800 nm）
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產品型號
鍍膜型號 | 波長 | 反射率 | 推薦 | 損傷 | |
AOI=0 | AOI=45 |
|
| 基材 | 閾值 |
2012-i0 | 2012-i45 | 248 | 25±3 | UVFS | 1 J/cm2 |
2015-i0 | 2015-i45 | 248 | 50±3 | UVFS | 1 J/cm2 |
2017-i0 | 2017-i45 | 248 | 75±3 | UVFS | 1 J/cm2 |
2022-i0 | 2022-i45 | 266 | 25±3 | UVFS | 1 J/cm2 |
2025-i0 | 2025-i45 | 266 | 50±3 | UVFS | 1 J/cm2 |
2027-i0 | 2027-i45 | 266 | 75±3 | UVFS | 1 J/cm2 |
2032-i0 | 2032-i45 | 308 | 25±3 | UVFS | 1 J/cm2 |
2035-i0 | 2035-i45 | 308 | 50±3 | UVFS | 1 J/cm2 |
2037-i0 | 2037-i45 | 308 | 75±3 | UVFS | 1 J/cm2 |
2042-i0 | 2042-i45 | 355 | 25±3 | UVFS | 2 J/cm2 |
2045-i0 | 2045-i45 | 355 | 50±3 | UVFS | 2 J/cm2 |
2047-i0 | 2047-i45 | 355 | 75±3 | UVFS | 2 J/cm2 |
2052-i0 | 2052-i45 | 400 | 25±3 | UVFS | 3 J/cm2 |
2055 | 2055 | 400 | 50±3 | UVFS | 3 J/cm2 |
2057-i0 | 2057-i45 | 400 | 75±3 | UVFS | 3 J/cm2 |
2062-i0 | 2062-i45 | 532 | 25±3 | UVFS, BK7 | 3 J/cm2 |
2065-i0 | 2065-i45 | 532 | 50±3 | UVFS, BK7 | 3 J/cm2 |
2067-i0 | 2067-i45 | 532 | 75±3 | UVFS, BK7 | 3 J/cm2 |
2069-i0 | 2069-i45 | 633 | 25±3 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
2070-i0 | 2070-i45 | 633 | 50±3 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
2071-i0 | 2071-i45 | 633 | 75±3 | UVFS, BK7 | 1.5 J/cm2 |
2072-i0 | 2072-i45 | 800 | 25±3 | UVFS, BK7 | 3 J/cm2 |
2075-i0 | 2075-i45 | 800 | 50±3 | UVFS, BK7 | 3 J/cm2 |
2077-i0 | 2077-i45 | 800 | 75±3 | UVFS, BK7 | 3 J/cm2 |
2079-i0 | 2079-i45 | 852 | 25±3 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 |
2080-i0 | 2080-i45 | 852 | 50±3 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 |
2081-i0 | 2081-i45 | 852 | 75±3 | UVFS, BK7 | 1 J/cm2 |
2082-i0 | 2082-i45 | 1064 | 25±3 | UVFS, BK7 | 3 J/cm2 |
2085-i0 | 2085-i45 | 1064 | 50±3 | UVFS, BK7 | 3 J/cm2 |
2087-i0 | 2087-i45 | 1064 | 75±3 | UVFS, BK7 | 3 J/cm2 |
2089-i0 | 2089-i45 | 1550 | 25±3 | UVFS, BK7 | 2 J/cm2 |
2090-i0 | 2090-i45 | 1550 | 50±3 | UVFS, BK7 | 2 J/cm2 |
2091-i0 | 2091-i45 | 1550 | 75±3 | UVFS, BK7 | 2 J/cm2 |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。 必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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