Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片（矩形）

簡要描述：Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片（矩形）
薄膜偏振片（矩形）將s偏振和p偏振分量分開。薄膜偏振片可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分光鏡的替代品。

產品品牌：Eksma
廠商性質：經銷商
更新時間：2025-11-01
訪問量：1366

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詳細介紹

品牌	Eksma	價格區間	面議
組件類別	光學元件	應用領域	醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合

Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片（矩形）

Eksma FEMTOLINE薄膜激光偏振片（矩形）

薄膜偏振片（矩形）將s偏振和p偏振分量分開。薄膜偏振片可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分光鏡的替代品。

產品介紹

Ø標準薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 95.0％

Ø高透射薄膜激光偏振片的Rs / Tp> 99.5 / 99.0％

Ø對于高消光比的薄膜偏振片，Tp> 98％，Ts <0.1％

Ø標準和高透射偏振片的消光比> 200：1

Ø消光比高的偏振片的消光比> 1000：1（HE系列）

薄膜偏振片可分離S偏振和P偏振分量。由于在800 nm，50 fsec時達到100 mJ / cm2的高損傷閾值，薄膜偏振片可以用作格蘭激光偏振棱鏡或立方偏振分束器的替代產品。

薄膜偏振片用于高能激光器。它們可用于Yb：KGW / KYW或Ti：藍寶石激光器的基本波長及其諧波或腔內Q開關釋抑偏振片。使用薄膜激光偏振片的較有效方法是在布魯斯特角-56°±2°且損耗較小。典型的水平偏振比Tp / Ts為200：1。Tp> 99％的薄膜激光偏振片可根據客戶要求提供。

產品型號

高消光比，UV FS，Tp> 98％，Ts <0.1％的薄膜偏振片

型號	材料	長度	寬度	厚度	波長
420-1478HE	UVFS	20 mm	15 mm	6.0 mm	1030 nm
420-1578HE	UVFS	30 mm	20 mm	6.0 mm	1030 nm

標準薄膜偏振片，BK7，Rs / Tp> 99.5 / 95.0％

型號	材料	長度	寬度	厚度	波長
420-0274	BK7	28.6 mm	14.3 mm	3.0 mm	515 nm
420-0278	BK7	28.6 mm	14.3 mm	3.0 mm	1030 nm
420-0286	BK7	28.6 mm	14.3 mm	3.0 mm	800 nm
420-0296	BK7	28.6 mm	14.3 mm	3.0 mm	780-820 nm
420-0298	BK7	28.6 mm	14.3 mm	3.0 mm	1010-1050 nm

標準薄膜偏振片，UV FS，Rs / Tp> 99.5 / 95.0％

型號	材料	長度	寬度	厚度	波長
420-1272	UVFS	28.6 mm	14.3 mm	3.0 mm	343 nm
420-1274	UVFS	28.6 mm	14.3 mm	3.0 mm	515 nm
420-1278	UVFS	28.6 mm	14.3 mm	3.0 mm	1030 nm
420-1283	UVFS	28.6 mm	14.3 mm	3.0 mm	400 nm
420-1286	UVFS	28.6 mm	14.3 mm	3.0 mm	800 nm
420-1296	UVFS	28.6 mm	14.3 mm	3.0 mm	780-820 nm
420-1298	UVFS	28.6 mm	14.3 mm	3.0 mm	1010-1050 nm

材料	BK7, UV FS
表面質量	20-10 表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)
透射波前畸變	λ/10 @ 633 nm
透射效率	Tp>95%
消光比Tp / Ts	>200:1
激光損傷閾值	>100 mJ/cm2, 50 fsec pulse, 800 nm typical, 50 Hz

EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作，可在科學，工業，醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產品，可以快速實現現成的交付。

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