Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM

簡要描述：Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM
高反射率和低群延遲色散，以800 nm為中心的寬區域內，具有硬介電高反射或離子束濺射鍍膜。

產品品牌：Eksma
廠商性質：經銷商
更新時間：2025-11-01
訪問量：1531

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詳細介紹

品牌	Eksma	價格區間	面議
組件類別	光學元件	應用領域	醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合

Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM

Eksma 寬帶低色散超快反射鏡720-880 NM

高反射率和低群延遲色散，以800 nm為中心的寬區域內，具有硬介電高反射或離子束濺射鍍膜。

產品介紹

Ø在以800 nm為中心的寬區域中具有高反射率和低群延遲色散

Ø硬質介電體高反射或離子束濺射鍍膜

Ø激光損傷閾值> 50 mJ / cm2，50 fsec脈沖，800 nm典型值

EKSMA Optics提供720-880 nm鍍膜的寬帶低GDD超快激光反射鏡。這些超快反射鏡設計用于Ti：Sapphire激光器的一階諧波。

標準反射鏡具有高反射率（> 99％），并且為082-7288HHR物品（UV FS，Ø25.4x 6 mm）定了更高的反射率（> 99.8％）。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。我們的激光組件可在科學，工業，醫學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。

產品型號

BK7

型號	波長	材料	尺寸	AOI	R, %(S+P)/2
071-7288	720-880 nm	BK7	ø12.7 x 3 mm	45°	99.0%
071-7288-i0	720-880 nm	BK7	ø12.7 x 3 mm	0°	99.0%
071-7288T6	720-880 nm	BK7	ø12.7 x 6 mm	45°	99.0%
071-7288T6-i0	720-880 nm	BK7	ø12.7 x 6 mm	0°	99.0%
072-7288	720-880 nm	BK7	ø25.4 x 6 mm	45°	99.0%
072-7288-i0	720-880 nm	BK7	ø25.4 x 6 mm	0°	99.0%
074-7288	720-880 nm	BK7	ø38.1 x 8 mm	45°	99.0%
074-7288-i0	720-880 nm	BK7	ø38.1 x 8 mm	0°	99.0%
075-7288	720-880 nm	BK7	ø50.8 x 8 mm	45°	99.0%
075-7288-i0	720-880 nm	BK7	ø50.8 x 8 mm	0°	99.0%
077-7288	720-880 nm	BK7	ø76.2 x 12.7 mm	45°	99.0%
077-7288-i0	720-880 nm	BK7	ø76.2 x 12.7 mm	0°	99.0%
078-7288	720-880 nm	BK7	ø101.6 x 15 mm	45°	99.0%
078-7288-i0	720-880 nm	BK7	ø101.6 x 15 mm	0°	99.0%

UVFS

型號	波長	材料	尺寸	AOI	R, %(S+P)/2
081-7288	720-880 nm	UVFS	ø12.7 x 3 mm	45°	99.0%
081-7288-i0	720-880 nm	UVFS	ø12.7 x 3 mm	0°	99.0%
081-7288T6	720-880 nm	UVFS	ø12.7 x 6 mm	45°	99.0%
081-7288T6-i0	720-880 nm	UVFS	ø12.7 x 6 mm	0°	99.0%
082-7288	720-880 nm	UVFS	ø25.4 x 6 mm	45°	99.0%
082-7288-i0	720-880 nm	UVFS	ø25.4 x 6 mm	0°	99.0%
082-7288HHR	720-880 nm	UVFS	ø25.4 x 6 mm	45°	99.8%
082-7288HHR-i0	720-880 nm	UVFS	ø25.4 x 6 mm	0°	99.9%
084-7288	720-880 nm	UVFS	ø38.1 x 8 mm	45°	99.0%
084-7288-i0	720-880 nm	UVFS	ø38.1 x 8 mm	0°	99.0%
085-7288	720-880 nm	UVFS	ø50.8 x 8 mm	45°	99.0%
085-7288-i0	720-880 nm	UVFS	ø50.8 x 8 mm	0°	99.0%
087-7288	720-880 nm	UVFS	ø76.2 x 12.7 mm	45°	99.0%
087-7288-i0	720-880 nm	UVFS	ø76.2 x 12.7 mm	0°	99.0%
088-7288	720-880 nm	UVFS	ø101.6 x 15 mm	45°	99.0%
088-7288-i0	720-880 nm	UVFS	ø101.6 x 15 mm	0°	99.0%

規格：

鍍膜	硬電介質高反射或離子束濺射
入射角	0或45±3°
專為平均偏振而設計	R =（Rs + Rp）/ 2
激光損傷閾值	> 50 mJ / cm2，50 fsec，800 nm典型值

基材：

材料	UV級熔融石英或BK7玻璃
S1表面平整度	633 nm時為λ/ 10
S1表面質量	20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B）
S2表面質量	簡單拋光
直徑公差	+0.00mm-0.12mm
厚度公差	±0.25
楔	<3分鐘
倒角	在45°典型值為0.3mm

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。在我們的鏡頭生產工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內工作，可在科學，工業，醫學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據客戶的圖紙和規格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產品，可以快速實現現成的交付。

產品咨詢

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